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电荷稳定了TaON中的氧抗位点缺陷，行业以及Ta3N5中的氧杂质缺陷，这与这些材料倾向于进行氧化分解，重整形成氧化物如Ta2O5相一致。此外，平均在典型的光催化操作条件下，TaON中的ON位点缺陷具有较低的形成能。

在这项工作中，或峰第一原理模拟用于预测原型（氧）氮化物光催化剂TaON和Ta3N5中氮和氧阴离子空位的竞争稳定性和迁移率。

然而，谷分对于氮抗位点缺陷来说，情况永远不会如此，随着电荷状态的增加，这会越来越不利。安徽（7）锂离子电池和染料敏化太阳能电池的集成器件。

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